Konkurencja EUV szaleje na peryferyjnych urządzeniach półprzewodnikowych

Zaletą Tokyo Electronics jest „Coater Developer”. To urządzenie jest używane do powlekania specjalnej cieczy chemicznej na płytce krzemowej jako materiał półprzewodnikowy do jej rozwinięcia. W zakresie urządzeń do masowej produkcji EUV udział firmy w rynku wynosi 100%. Oczekuje się, że skonsolidowana sprzedaż w tym roku fiskalnym osiągnie 1,28 biliona jenów. Ponad 10% tej kwoty zostanie przeznaczone na badania i rozwój w celu utrwalenia wiodącej pozycji na etapie popularyzacji EUV.

Na rynku sprzętu do produkcji półprzewodników o wartości ponad 6 bilionów jenów rocznie zachodzą zmiany pokoleniowe.

Im mniejsza szerokość linii obwodu półprzewodnika, tym wyższa wydajność, a aktualny najnowocześniejszy produkt ma 5 nanometrów. Aby przenieść tak cienki obwód na płytkę krzemową, niezbędna jest maszyna litograficzna EUV. Wraz ze wzrostem podaży ASML, jedynej masowo produkowanej metody EUV na świecie, rozpoczęła się również konkurencja rozwojowa obejmująca sprzęt peryferyjny, taki jak powlekanie i źródła światła.

Symbolem zmiany pokoleniowej jest producent sprzętu badawczego Lasertec. Jeśli w fotomasce jako oryginalnej płytce drukowanej występują defekty, współczynnik defektów półprzewodnika odpowiednio wzrośnie. Firma produkuje sprzęt testowy obsługujący EUV, a jej zamówienia od lipca 2019 do marca 2020 wzrosły 2,2 razy w porównaniu z tym samym okresem ubiegłego roku, osiągając 65,8 mld jenów. Oczekuje się, że dwie trzecie rocznych zamówień będzie dotyczyło EUV.

Ponadto dochodzi do zaciekłych starć między firmami japońskimi. W dziedzinie maszyn do pisania masek elektronowych technologia NuFlare firmy Toshiba dogania sojusz pomiędzy JEOL i IMS NANOFABRICATION (Austria). Nacisk kładziony jest na rozwój technologii „Multi-Beam” wykorzystującej 260 000 wiązek laserowych.

W styczniu Toshiba odepchnęła HOYA, która zainicjowała wrogi TOB (wezwanie publiczne), i skonsolidowała swoją kontrolę nad Niu Fulai. 25 nowo oddelegowanych techników ds. Rozwoju itp. Planuje dostarczyć w 2020 r. Sprzęt litograficzny nowej generacji obsługujący EUV.

Gigaphoton (z siedzibą w mieście Oyama w prefekturze Tochigi), spółka zależna Komatsu, która produkuje źródła laserowe, nie może się doczekać powrotu. Przed nadejściem EUV firma znalazła się w pierwszej dwójce w dziedzinie źródeł światła do maszyn litograficznych. Jednak z powodów takich jak przejęcie konkurenta przez ASML, obecnie traci swoją obecność. Firma Gigaphoton dąży do opracowania wysokowydajnych komponentów źródła światła, zanim ASML wypuści na rynek sprzęt nowej generacji EUV, aby odzyskać udział w rynku.

Tłem dla firm do przyspieszenia rozwoju sprzętu EUV jest konkurs miniaturyzacji zainicjowany przez południowokoreańskie Samsung Electronics i TSMC. Zapotrzebowanie na wysokowydajne półprzewodniki, takie jak 5G, jest duże, a obie firmy konkurują o każdą maszynę litograficzną ASML o wartości ponad 20 miliardów jenów. W tym procesie rozszerzają się również możliwości biznesowe dla okolicznych firm produkujących sprzęt.

Statystyki z International Semiconductor Equipment and Materials Association (SEMI) oraz Semiconductor Manufacturing Equipment of Japan (SEAJ) pokazują, że udział w rynku sprzętu do produkcji półprzewodników wyprodukowanego w Japonii wynosił 31,3% w 2019 r., Który w przeszłości oscylował wokół 30%. 20 lat.

W dziedzinie sprzętu litograficznego firmy Nikon i Canon wcześniej opanowały rynek światowy, ale zawiodły w konkurencji z ASML i pozostały w tyle w rozwoju EUV. W dziedzinie półprzewodników, w miarę jak proces produkcyjny staje się trudny, rośnie tendencja zwycięzcy bierze wszystko. Zmiana pokoleniowa wykorzystująca EUV jako szansę przyspieszy również przetrwanie najlepiej przystosowanych firm produkujących sprzęt.

„Inwestycja w najnowocześniejszy sprzęt na rynku kontynentalnym została wstrzymana” - westchnął szef firm zajmujących się częściami i komponentami dla EUV. Ponieważ rząd holenderski tego nie zatwierdził, ASML nie był w stanie eksportować maszyn litograficznych EUV na kontynent. Ponadto wstrzymany jest również zakup urządzeń peryferyjnych i części.

Za tym stoi tarcie handlowe między Chinami a USA. Jeśli sprzęt ASML nie będzie mógł być importowany, producenci półprzewodników z kontynentu będą pozostawać w tyle w konkurencji miniaturyzacji. Rząd kontynentalny stawia sobie za cel osiągnięcie poziomu samowystarczalności półprzewodników 40% do 2020 r. I 70% do 2025 r., Ale jest to trudne do osiągnięcia. Wiele poglądów uważa, że ​​Stany Zjednoczone wywarły presję na holenderski rząd, aby użył go jako narzędzia sankcji.

Statystyki International Semiconductor Equipment and Materials Association pokazują, że rynek sprzętu do produkcji półprzewodników w 2019 r. Wyniósł 59,7 mld USD, co stanowi wzrost o 59% w porównaniu z 2014 r. W tym okresie rynek kontynentalny zwiększył swoją obecność i udział w światowym całkowity rynek wzrósł z 11,6% w 2014 r. do 22,5%. Dla japońskich firm produkujących półprzewodniki rynek stały się trudnym do zignorowania.

Rozwój technologii EUV jest trudny, a koszty badań i rozwoju wszystkich firm rosną. Jeśli rynek przestanie się rozszerzać, zwrot z inwestycji przedsiębiorstw będzie opóźniony, a rozwój nowych technologii może być trudny do osiągnięcia.